上华的LPCVD资料，感觉还是有点用处的，大家都学习一下
2015-04-27 09:49
LPCVD炉管清洗使用的配方是什么？HF会腐蚀炉管吗？
2017-09-07 10:09
各种芯片制造行业；主要设备有：扩散炉，光刻机，涂布机，LPCVD，PROBING（点测机），干刻机、示波器、测膜厚仪等各种芯片制造设备；为更好的服务客户，公司同时经营各种相关设备配件与承接特气管路铺设
2009-05-12 17:28
各种芯片制造行业；主要设备有：扩散炉，光刻机，涂布机，LPCVD，PROBING（点测机），干刻机、示波器、测膜厚仪等各种芯片制造设备；为更好的服务客户，公司同时经营各种相关设备配件与承接特气管路铺设
2009-05-12 17:32
1、 电子、物理、通信、材料等专业，本科以上学历，3年以上的PECVD\LPCVD沉积工作经验； 2、 了解半导体工艺、精通PECVD或LPCVD材料生长技术； 3、 精通PECVD或LPCVD设备
2012-12-19 22:42
、 合金化6、 单面光刻（涂胶、对准、曝光、显影）7、 双面光刻8、 LPCVD Si3N4 （氮化硅）9、 LPCVD POLY（多晶硅）10、 a-Si （非晶硅）11、 PECVD SiO2 （氧化
2015-01-07 16:15
领先水平，并以具备规模生产能力。所涉及的产品有GPP硅片清洗机，沟槽蚀刻机，程控，微控扩散炉，真空焊接炉，隧道焊接炉，烘干炉，LPCVD设备，无尘精密烤箱等。杰盛科技会不断创新，提高核心竞争力，以高品质
2013-09-13 15:16
或 LPCVD) 。（1）常压 CVD (Normal Pressure CVD)（2）低压 CVD (Low Pressure CVD)（3）热 CVD (Hot CVD)/(thermal
2011-12-01 15:43
膜，以及高分子膜和金属膜等。由于在表面硅MEMS加工技术中最常用到的是多晶硅、氧化硅、氮化硅薄膜，而它们通常采用LPCVD或PECVD来制作。2、PECVD制膜技术PECVD法是利用辉光放电的物理作用
2018-11-05 15:42
deposition)法沉积一层Si3N4(Hot CVD或LPCVD)。 1 常压CVD (Normal Pressure CVD) NPCVD为最简单的CVD法，使用于各种领域中。其一般装置是由(1)输送反应
2019-08-16 11:09
