卧式热壁型PECVD 设备北京七星华创电子股份有限公司微电子设备分公司1、简介我公司研制的卧式PECVD 设备专门应用于太阳能电池制造领域中氮化硅薄膜的淀积工艺。由于
2009-12-18 16:27
本文介绍了ControlNet 总线技术特点，并将其应用到PECVD 设备的控制系统中。试验结果表明，采用ControlNet 总线控制技术，PECVD 设备淀积薄膜的质量有明显地提高。关键词：现场总线
2009-08-18 11:50
摘要:采用VHF-PECVD技术制备了不同功率系列的微晶硅薄膜和电池,测试结果表明:制备的适用于微晶硅电池的有源层材料的暗电导和光敏性都在电池要求的参数范围内.低功率或高功率条
2010-11-23 21:36
在等离子增强化学气相沉积法PECVD沉积 SiO2和 SiN掩蔽层过程中!分解等离子体中浓度较高的H原子使MG受主钝化!同时在P-GaN材料表面发生反应形成浅施主特性的N空位。
2018-12-17 08:00
尽量减少硅太阳电池中的少子复合和光的反射损失 ， 对于提高太阳电池的效池有很大的帮助。目前适合于硅太阳电池的减反射膜主要有 SiO2、 TiO2、SiN等薄膜 ， 但是 SiO2 的折射率 （1146） 太低 ， 不利于光学减反射 ; TiO2 的折射率虽接近硅太阳电池的最佳光学减反射膜的折射率 ， 但没有表面钝化作用 ［ 1 - 2 ］ ; SiN 薄膜的折射率为 210～212， 透明波段中心与太阳光的可见光光谱波段 （ 550 nm） 吻合 ， 且具有表面和体钝化的作用 ［ 3 ］ ， 此外 ， SiN还
2017-09-15 16:58
2015-05-04 16:55
2017-09-15 15:27
2017-09-25 10:16
CX系列射频电源是一款应用在半导体领域的高频功率放大器，他是一款等离子体发生器。其主要功能为半导体的等离子刻蚀，PECVD，PVD，溅射镀膜等提供高频等离子体激励.
2018-09-27 16:29
SnO2-Ag-SnO2 结构元件室温下对H2S的敏感特性研究 以SnCl4 和O2 为源物质,采用等离子增强化学气相沉积( PECVD) 和浸渍法掺Ag 技术制备了SnO2-Ag2SnO2 结构薄膜,在20 ℃下
2010-02-26 17:04
