电子发烧友

PECVD原理 PECVD作用：在硅片表面镀上一层深蓝色的氮化硅膜，可以充分吸收太阳光，降低反射，并且氮化硅膜有钝化的作用，保护电池

2010-07-18 11:29

本文介绍了PECVD中影响薄膜应力的因素。 影响PECVD 薄膜应力的因素有哪些？各有什么优缺点？ 以SiH4+NH3/N2生成SiNx薄膜，SiH4+NH3+NO2生成SiON薄膜为例，我这边归纳

2025-02-10 10:27

卧式热壁型PECVD 设备北京七星华创电子股份有限公司微电子设备分公司1、简介我公司研制的卧式PECVD 设备专门应用于太阳能电池制造领域中氮化硅薄膜的淀积工艺。由于

2009-12-18 16:27

本文介绍了ControlNet 总线技术特点，并将其应用到PECVD 设备的控制系统中。试验结果表明，采用ControlNet 总线控制技术，PECVD 设备淀积薄膜的质量有明显地提高。关键词：现场总线

2009-08-18 11:50

沈阳拓荆科技有限公司承担的国家重大科技专项项目——90～65纳米等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备的研发与产业化研制日前获得成功

2011-11-08 09:15

摘要:采用VHF-PECVD技术制备了不同功率系列的微晶硅薄膜和电池,测试结果表明:制备的适用于微晶硅电池的有源层材料的暗电导和光敏性都在电池要求的参数范围内.低功率或高功率条

2010-11-23 21:36

PECVD作为太阳能电池生产中的一种工艺，对其性能的提升起着关键的作用。PECVD可以将氮化硅薄膜沉积在太阳能电池片的表面，从而有效提高太阳能电池的光电转换率。但为了清晰客观的检测沉积后太阳能电池片

2023-09-27 08:35 美能光伏 企业号

在等离子增强化学气相沉积法PECVD沉积 SiO2和 SiN掩蔽层过程中!分解等离子体中浓度较高的H原子使MG受主钝化!同时在P-GaN材料表面发生反应形成浅施主特性的N空位。

2018-12-17 08:00

背景二氧化硅薄膜具有硬度大、防腐蚀性、耐潮湿性和介电性能强等优点，因此二氧化硅薄膜在半导体行业中可以用作器件的保护层、钝化层、隔离层等。 PECVD即等离子体增强化学的气相沉积法是借助微波或射频等使

2020-09-29 15:07

”PECVD量产设备。迅立光电自主研发的PERC设备是国际上首台成功使用射频（RF）等离子体增强化学气相沉积（PECVD）制作氧化铝和氮化硅双层薄膜的真空镀膜设备，代表国际最先进水平。迅立光电技术核心

2018-05-29 18:26