光掩膜有掩膜原版(reticle mask，也有称为中间掩膜，reticle作为单位译为光栅)，用步进机重复将比例缩小到master maks上，应用到实际曝光中的为工作掩膜(working
2012-01-12 10:36
把被摄物体的影像复制到底片上。 而ASML光刻机在做的光刻，我们称之为微影制程，原理是将高能雷射光穿过光罩（reticle），将光罩上的电路图形透过聚光镜（projectionlens），将影像缩小
2020-09-02 17:38
/10，这种场合的掩模被称为掩模原版(reticle)。使用透镜的曝光装置，其投影光学系统的清晰度R和焦深D 分别用下式表示：R=k1 λ/NA D=k2 λ/(NA) 2 λ 曝光波长NA 透镜
2019-08-16 11:11
