PVD篇 PVD是通过溅射或蒸发靶材材料来产生金属蒸汽，然后将金属蒸汽冷凝在晶圆表面上的过程。应用材料公司在 PVD 技术开发方面拥有 25 年以上的丰富经验，是这一领域无可争议的市场领导者
2023-05-26 16:36
半导体知识：PVD金属沉积制程讲解
2019-07-24 11:47
中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。
2023-05-16 14:29
STM32内部自带PVD功能，用于对MCU供电电压VDD进行监控。通过电源控制寄存器中的PLS［2:0］位可以用来设定监控电压的阀值，通过对外部电压进行比较来监控电源。当条件触发，需要系统进入特别保护状态，执行紧急关闭任务：对系统的一些数据保存起来，同时对外设进行相应的保护操作。
2018-12-26 15:41
溅射镀膜(Vacuum Sputtering)基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。
2023-02-24 09:51
CKS32F4xx系列产品提供了可编程电压检测器PVD，用于对MCU供电电压VDD进行监控，当检测到电压低于或者高于PVD设置的阈值时，会向内核产生一个PVD中断（EXTI线中断）以使内核在复位前进
2023-02-13 15:12
.方案成熟可靠：核心硬件采用意法芯片，采用银行级瑞典FPC1011电容式采集仪，自主更新功能的先进算法；有效防止日假手指开门，冬季干燥环境适应性更佳，用户体验更舒适。
2019-12-11 11:16
蒸发镀膜，是将膜料加热蒸发为气相后沉积到衬底表面，此种成膜方式决定了蒸发出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev，原子动能太低，填充密度太低。
2017-12-05 08:59
1. 304不锈钢材质面板把手，更简洁经典，耐腐蚀耐磨损性能强。
2019-12-12 14:12
