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  • 基于WSe₂结构上存在的负磁阻现象

    WSe₂属于TMD家族,具有层依赖性带隙,从1.2 eV(块体)到1.65 eV(单分子层)不等。单分子层WSe₂作为一种极具发展前景的二维半导体,因其独特的物理特性和在电子学、光电子学和自旋电子学等方面的潜在应用而备受关注。

    2022-10-18 11:53

  • 基于Si NCs和2D WSe2混合结构的突触器件

    作为即将到来的“超越摩尔”时代最重要的技术之一,神经形态计算在很大程度上取决于突触器件的发展。本文利用硼(B)掺杂硅纳米晶体(Si NCs)的强宽带光吸收和二维(2D)WSe2的高效电荷传输的协同作用,制备了基于Si NCs和2D WSe2混合结构的突触器件。

    2022-11-02 15:10

  • 基于单层MoSe2-WSe2异质结器件

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  • 基于MoSe2-WSe2异质结器件的制备与表征

    芯片是我国核心科技的“卡脖子”难题,随着芯片尺寸的逐渐降低,对材料科学和热科学等领域都提出了新的挑战。

    2022-10-17 15:39

  • 基于p型V-WSe2和n型MoS2的可编程FET的异质集成

    CMOS技术是无数现代电子产品、仪器和计算工具的大脑。60多年来,CMOS技术在性能、能效和单位功能成本方面持续增长,这得益于遵循摩尔定律的硅基MOSFET的不断扩展。虽然仍在全力以赴,但硅基CMOS已开始显示出未来技术节点出现问题的早期迹象。前面有两个主要的技术障碍:1)对于亚10 nm节点,必须积极减小沟道厚度以保持栅极静电,从而保持理想的器件性能。硅和其他块材半导体由于有害的量子限制效应和沟道-电介质界面处电荷载流子的散射增加而容易受到厚度缩放的影响,从而导致迁移率严重下降。2)算术核心或逻辑单元与数据存储或内存单元的物理分离,这是冯诺依曼架构所要求的,限制了CMOS处理器在计算和数据密集型应用中的能效。第一个问题的解决方案是超薄通道材料的创新。第二个问题的解决方案是非冯诺依曼架构,其中消除了逻辑和

    2022-08-02 11:17