硅）12、 PECVD Si3N4 （氮化硅）13、 PECVD SiON （氮氧化硅）14、 PECVD TEOS15、 PVDSputter 金属溅射（铝、铝硅、钛、氮化钛等）16、 RIE Si
2015-01-07 16:15
（3），因此,可以通过测量激发光和发射光之间的滞后相移来实现对荧光的测量。 1.1化学试剂及主要仪器 正硅酸乙酯（TEOS）采购自阿拉丁试剂网；二甲基甲氧基硅烷（DiMe-DMOS）采购自阿拉丁试剂网
2025-04-21 15:01
--4500 oC的温度下形成SiH4 + O2 –-SiO2 + 2H2 或是用Si(OC2H5)4 (TEOS: tetra – ethoxy – silanc )和O2在750 oC左右的高温下反应
2019-08-16 11:09
介电常数层间绝缘膜有四个难题①提高机械强度；②提高可加工性；③提高粘合性；④降低吸水性。 提高机械强度是目前最大难题之一，当未找到有希望的解决办法。目前低介电常数膜的机械强度比以往使用TEOS
2018-08-29 10:53
chambersApplied Materials P5000 PECVD system, 8", TEOS with PLISCanon FPA-3000 EX4 DU! V Stepper
2009-08-28 15:52
Stress拉伸应力（参照192）因为热膨胀系数的不同，薄膜与底材产生了应力。当沉积薄膜的热膨胀系数高于底材，冷却后是薄膜承受了一个拉伸应力。229) TEOS
2020-02-17 12:20
) Carrier Gas 载气用以携带一定制程反应物（液体或气体）进反应室的气体，例如用N2携带液态TEOS进炉管，N2即可称为载气。26) Chamber真空室，反应室专指一密闭的空间，而有特殊的用途、诸如
2020-02-17 12:05
