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HMDS，BARC是光刻工序中比较常用的化学品，但是它们并不能用显影液除去，根据是什么？它们一定要除去吗？有哪几种去除的方式？
2023-12-22 10:29
进行的。 底胶涂覆增强光刻胶(PR)和圆片表面的黏附性。广泛使用: (HMDS)六甲基二硅胺、在PR旋转涂覆前HMDS蒸气涂覆、PR涂覆前用冷却板冷却圆片。 三、光刻胶涂覆
2019-01-02 16:32
