CVD与PVD的区别及比较 (一)选材： 化学蒸镀－装饰品、超硬合金、陶瓷 物理蒸镀－高温回火之工、模
2009-03-06 17:17
硅烷（SiH4），是CVD里很常见的一种气体，在CVD中通常用来提供硅的来源，用途很广泛，我们来详细了解一下。
2023-11-24 14:22
介绍了铜材料的CVD工艺是怎么实现的以及什么情况下会用到铜CVD工艺。
2024-01-07 14:08
CVD 步进电机驱动器说明
2023-03-13 16:08
CVD过程中，不仅在晶圆表面出现沉积，工艺室的零件和反应室的墙壁上也都会有沉积。
2022-12-27 15:34
Hello,大家好，今天来分享下半导体FAB中常见的五种CVD工艺。 化学气相沉积（CVD）主要是通过利用气体混合的化学反应在硅片表面沉积一层固体膜的工艺。在 CVD 工艺过程中，化合物会进行充分
2025-01-03 09:47
本文介绍了CVD薄膜质量的影响因素及故障排除。 CVD薄膜质量影响因素 以下将以PECVD技术沉积薄膜作为案例，阐述影响薄膜品质的几个核心要素。 PECVD工艺质量主要受气压、射频能量、衬底温度
2025-01-20 09:46
Producer Black Diamond 3 系统设计为可与 应用材料公司的 Producer Nanocure 3 UV 固化系统配合使用。Nanocure 3 系统通过使用高密度的紫外线源来固化和密化 Black Diamond 3 薄膜，以便提供最佳的机械与光学性能。
2023-05-25 14:41
化学气相沉积 (Chemical Vapor Deposition, CVD）是指不同分压的多种气相状态反应物在一定温度和气压下发生化学反应，生成的固态物质沉积在衬底材料表面，从而获得所需薄膜的工艺技术。
2022-11-04 10:56
溅射镀膜(Vacuum Sputtering)基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。
2023-02-24 09:51
