硅烷（SiH4），是CVD里很常见的一种气体，在CVD中通常用来提供硅的来源，用途很广泛，我们来详细了解一下。
2023-11-24 14:22
介绍了铜材料的CVD工艺是怎么实现的以及什么情况下会用到铜CVD工艺。
2024-01-07 14:08
CVD过程中，不仅在晶圆表面出现沉积，工艺室的零件和反应室的墙壁上也都会有沉积。
2022-12-27 15:34
Producer Black Diamond 3 系统设计为可与 应用材料公司的 Producer Nanocure 3 UV 固化系统配合使用。Nanocure 3 系统通过使用高密度的紫外线源来固化和密化 Black Diamond 3 薄膜，以便提供最佳的机械与光学性能。
2023-05-25 14:41
溅射镀膜(Vacuum Sputtering)基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。
2023-02-24 09:51
随着科技的不断发展，金刚石在许多领域中都展现出了巨大的应用潜力。其中，化学气相沉积（CVD）金刚石由于其独特的物理和化学性质，尤其在机械密封领域中有着广泛的应用前景。
2024-01-04 10:17
化学气相沉积 (CVD) 能够生产出兼具高质量、高纯度及高强度等优点的材料，因此在半导体行业非常受欢迎。超高真空化学气相沉积涉及相当复杂的设备和极高的温度。为了能在提高效率的同时更好地控制成本，工程师们可以对这一复杂工艺进行模拟。
2018-06-02 09:23
金刚石具有低密度、高弹性模量、高强度、高热导率、化学惰性和生物相容性等优异特性，在声学领域主要应用于高保真喇叭、声表面波器件、声传感器等。
2024-01-08 11:02
一、引言 在半导体制造业中，外延生长技术扮演着至关重要的角色。化学气相沉积（CVD）作为一种主流的外延生长方法，被广泛应用于制备高质量的外延片。而在CVD外延生长过程中，石墨托盘作为承载和支撑半导体
2025-01-08 15:49 广州万智光学技术有限公司 企业号
中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。
2023-05-16 14:29
