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由于图案密度和晶圆直径的增加，对于非常精细的图案ULSI器件高度坚固的表面进行完整的清洗、清洗和干燥是极其困难的。IPA蒸汽干燥是半导体制造中广泛应用的一种干燥方法。由于IPA具有低表面张力和对水的高溶解度，它适合于IPA蒸汽工艺以完美地消除晶片表面的污染。该干燥系统还具有消除静电的能力，基本上可以达到高质量的表面清洁度。因此，我们采用直接测量静电荷的定量方法，研究了静电荷的去除机理。
2022-04-29 15:08
