Corporation6,Nikon Corporation7,Advantest Corporation8,Novellus Systems,Inc.9,Hitachi High-Technologies Corp.10,Dainippon Screen Mfg.Co.,Ltd.
2008-05-26 14:25
，厚度 10～15μm，低残余应力。工艺模式可以是一腔多片或者是多腔多片，设备可选用 Novellus C1、SPTS Delta fxP/c2L 等。 （2）沉积光波导芯层。沉积方法主要有两种
2018-02-22 10:06
