芯片设备制造商Tegal日前表示，该公司已经以大约360万美元售出超过30项的纳米沉积(Nanolayer deposition, NLD)专利。
2012-01-06 08:58
。常见的干法刻蚀设备有反应离子刻蚀机（RIE）、电感耦合等离子体刻蚀机（ICP）、磁性中性线等离子体刻蚀机（NLD）、离子束刻蚀机（IBE），本文目的对各刻蚀设备的结构进行剖析，以及分析技术的优缺点。
2024-01-20 10:24
