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        • 中国与国外相比较光刻工艺差别到底在哪里

          (美国是1978年)。 1990年3月，中科院光电所研制的IOE1010G直接分步重复投影***样机通过评议，工作分辨率1.25微米，主要技术指标接受美国GCA8000型的水平，相当于国外80年代

          2019-06-16 11:18

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