本实验测控系统采用的JBS2GK03过程控制实验装置,被控参数变量为液位、流量、温度和压力。该过程为自衡非振荡, 具有相互影响的双容过程,其数学模型可用如下传递函数描述:
2020-03-28 09:54
CP343-1(6GK7343-1EX30-0XE0) 或 CP343-1 Advanced(6GK7343-1GX30/1GX31-0XE0) 或 CP343-1 Lean
2023-10-30 14:21
***,85年完成第一台分步***,此后技术一直在推进。 1977年,我国最早的***GK-3型半自动***诞生,JKG-3型***是当时国内较先进的制造中大规模集成电路的光刻设备,这是一台接触式
2019-06-16 11:18