晶圆-机械聚晶(CMP)过程中产生的浆体颗粒对硅晶片表面的污染对设备工艺中收率（Yield）的下降有着极大的影响。
2022-03-14 10:50
的时间，与几种不同的金属和阻挡层特征相比，该溶液对金属叠层提供了优异的清洁和选择性(图5)。 结论 传统上，氢氟酸在半清洗中的侵蚀性是通过降低其在水中的浓度来控制的，稀HF (dHF和dHF+)、BOE和各种基于HF的专有清洗产品的广泛适用性证明了这一点。
2022-06-23 16:29
SAFERTOS为开发人员提供响应迅速、稳健、确定性的嵌入式实时操作系统 (RTOS)。它包含开发医疗设备所需的功能，并且提供设计历史文件(DHF)，为医疗设备集成SAFERTOS提供满足认证所需的文档。
2023-11-07 11:14
包括湿法清洗、等离子体处理、化学溶剂处理以及机械研磨等。以下是对芯片湿法刻蚀残留物去除方法的详细介绍： 湿法清洗 铜腐蚀液（ST250）：铜腐蚀液主要用于去除聚合物残留物，其对聚合物的去除能力比较强。 稀氟氢酸（DHF）
2024-12-26 11:55
的方法。使用气体沉积方法将直径为几纳米到几百纳米的超细金属颗粒沉积在硅表面。研究了使用各种清洁溶液去除超细颗粒的效率。APM（NH4OH~H2O2-H2O）清洗可以去除150nm的Au颗粒，但不能去除直径小于几十纳米的超细Au颗粒。此外，当执行 DHF-H2O2 清洗
2022-03-03 14:17
（Cleaning Tank） 功能：容纳清洗液（如SC-1、SC-2、DHF等），提供化学清洗环境。 类型： 槽式清洗：晶圆浸泡在溶液中，适用于大批量处理。 喷淋式清洗：通过喷嘴将清洗液均匀喷洒到晶圆表面，适用于单片清洗。 材质：耐腐蚀材料（如
2025-04-21 10:51
技术依赖的重要一步，也是给全世界人民一个重要的信号：“中国制造”已成为过去，如今是“中国创造”的时代！北通作为国产电子设备生产厂商之一，也曾与华为进行深度合作，成为华为DHF合作品牌。因此在华为鸿蒙系统推出
2021-06-11 18:26
