•One and two-dimensional process simulation program•Simulation etching, deposition, lithography, implantation,diffusion, epitaxy•Output
2009-10-17 16:56
物理气相沉积(PVD，Phisical Vapor Deposition)是在现代物理、化学、材料学、电子学等多学科基础上，经过多年的不断发展而成为一门新兴先进的工程技术。它是将耙材(需镀薄膜
2010-08-27 17:59
FDM（Fused Deposition Modeling ）：熔融挤出成形技术是目前桌面打印机最常用的技术之一，其基本原理是塑料丝送进加热的挤出头，使其软化，然后将软化的丝一层一层堆叠起来，最后形成立体模型。
2019-12-10 08:00
采用过滤真空阴极直流弧源（Filtered Cathodic Vicuum Arc Deposition, FCVA）方法沉积超硬（>6000HV）超厚(微米级)的DLC/DLC多层薄膜。通过显微硬度、内应力测量、XPS等方法表明，该薄膜显
2009-05-16 01:53
也称沉积。就是在晶体表面生长膜物质的方法。包括 和液相生长的方法，气相生长又分为化学气相淀积（ CVD：chemicalvapour deposition）和物理气相淀积（PVD：physical vapomdepositio），液相生长的典型方法是液相外延和电镀（铜布线）。
2018-04-17 14:58
采用EA-CVD(Electron Assisted Chemical Vapor Deposition)方法制备金刚石厚膜，在反应气体（CH4+H2）中添加乙醇，在保持其它条件不变的情况下研究了不同乙醇流量对金刚石膜生长的影响。利
2009-05-16 01:53
熔融沉积式（Fused deposition model ing，FDMD） 3D 打印机成型原理中最普遍的一种了（因为成本价格和技术门槛都低），把粗塑料丝（这里的粗字是相对比后面挤出而言的，粗丝
2017-09-30 10:38
本文由10G以太网的要求，介绍了新的激光优化多模光纤的性能特征。以及长飞光纤光缆有限公司凭借PCVD （Plasma-activated Chemical Vapor Deposition）工艺
2017-10-24 09:54
；分析光发射定位热点的截面结构缺陷。 FIB切片截面分析过程： FIB切片截面分析过程 FIB制备TEM样品过程： Platinum deposition：用电子束或离子束辅助沉积的方法在待制备TEM
2023-09-05 11:58
的工艺中，一般使用 plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD) 的方法，在芯片上镀上一层 silicon nitride (SiN) 的抗反射层镀膜
2017-11-22 11:12
