SuVolta公司展示其「深度耗尽通道」( Deeply Depleted Channel;DDC )技术在效能及功耗方面的优势。
2013-01-10 11:36
硅晶圆製造商Soitec SA公司声称,晶片製造商现在可以藉由转换到绝缘层上覆硅(SOI)晶圆,避免掉开发完全耗尽型(fully-depleted, FD)硅电晶体所需的数年研发时间,目前包括意法(
2012-04-19 13:34
意法半导体(ST)、Soitec与CMP(Circuits Multi Projets)携手宣佈,大专院校、研究实验室和设计公司将可透过CMP的硅中介服务採用意法半导体的CMOS 28奈米FD-SOI (Fully Depleted Silicon-on-Insulator,
2012-10-25 09:42
日前,联华电子与SuVolta公司宣布联合开发28纳米工艺技术,该工艺将SuVolta的SuVolta的Deeply Depleted Channel晶体管技术集成到联华电子的28纳米High-K/Metal Gate高效能移动工艺。
2013-07-25 10:10
日前,意法半导体(ST)宣布位于法国Crolles的12寸(300mm)晶圆厂即将拥有28奈米 FD-SOI技术,这证明了意法半导体以28奈米技术节点提供平面完全空乏型(planar fully-depleted)技术的能力。
2012-12-14 08:45