面对真空镀膜多元的应用市场，镀膜技术的发展也从传统的蒸发、电子束热蒸发技术，相继发展出PECVD、ALD原子层沉积技术、磁控溅射技术等等，技术地位日益凸显。本报告嘉宾来自国内半导体设备龙头企业无锡邑
2023-10-18 11:33
原子层沉积（Atomic layer deposition，ALD）是一种可以沉积单分子层薄膜的特殊的化学气相沉积技术。
2023-06-15 16:19
由于 ALD 技术逐层生长薄膜的特点，所以 ALD 薄膜具有极佳的合阶覆盖能力，以及极高的沉积均匀性和一致性，同时可以较好她控制其制备薄膜的厚度、成分和结构，因此被广泛地应用在微电子领域。
2022-11-07 10:43
上海伯东 Aston™ 质谱分析仪是一款快速, 强大的化学特异性气体质谱仪, 提供 ALD 过程控制解决方案, 可在这些非等离子体（“lights-off”）过程中提供原位计量和控制. 它可以实现快速, 化学特定的原位定量气体分析, 低至十亿分之几的水平, 提供 ALD
2023-06-20 17:28 伯东企业（上海）有限公司 企业号
由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点，ALD（原子层淀积）技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用此技术，但近来ALD在其它半导体工艺领域也已发展
2018-02-13 03:16
ALD 和 ALE 是微纳制造领域的核心工艺技术，它们分别从沉积和刻蚀两个维度解决了传统工艺在精度、均匀性、选择性等方面的挑战。两者既互补又相辅相成，未来在半导体、光子学、能源等领域的联用将显著加速
2025-01-23 09:59
本文介绍了什么是原子层沉积（ALD, Atomic Layer Deposition）。 1.原理：基于分子层级的逐层沉积 ALD 是一种精确的薄膜沉积技术，其核心原理是利用化学反应的“自限性
2025-01-17 10:53
“国家智能传感器创新中心和思锐智能都青睐‘智能’两个字，都对超越摩尔产业情有独钟，双方就以原子层沉积（ALD）设备及技术作为起点，建立战略合作伙伴关系，未来将在制造工艺设备的国产化，以及新材料、新工艺、新器件、新应用等方面展开合作研究
2021-05-30 09:02
Fraunhofer ISIT的PowderMEMS是一项新研发的创新技术，用于在晶圆级上从多种材料中创建三维微结构。该技术基于通过原子层沉积（ALD）工艺在空腔中将微米级粉末颗粒粘合在一起。
2022-03-17 09:46
快速、高均匀性和卓越的涂层质量——这些特性是物理气相沉积、原子层沉积（ALD）等工艺的追求。据麦姆斯咨询报道，近期，总部位于芬兰的ALD系统和工艺开发商Beneq和Laser Zentrum
2022-12-22 16:30
