在芯片制程进入纳米时代后，一个看似矛盾的难题浮出水面：如何在不损伤脆弱纳米结构的前提下，彻底清除深孔、沟槽中的残留物？传统水基清洗和等离子清洗由于液体的表面张力会损坏高升宽比结构中，而超临界二氧化碳（sCO₂）清洗技术，凭借其独特的物理特性，正在改写半导体清洗的规则。
2025-06-03 10:46
PCS OSx V3.12A；操作员站的硬件平台为基于Intel Pentium 133MHz的586工控机，已经没有备件供应；软件平台为基于SCO UNIX的组态软件，已于2004年6月宣告生命周期
2021-03-30 13:48
