•OPTOLITH模块可对成像(imaging)，光刻胶曝光(exposure)，光刻胶烘烤（bake）和光刻胶显影（development）等工艺进行精确定义
2022-03-15 14:16
exposure 接口类型:USB2.0 High Speed 支持免驱协议:USB Video Class（UVC）
2019-11-19 17:22
这里 management.endpoints.web.exposure.include=* 配置为开启 Actuator 服务，因为Spring Boot Actuator 会自动配置一个 URL
2022-12-26 16:02
图案化工艺包括曝光(Exposure)、显影(Develope)、刻蚀(Etching)和离子注入等流程。其中，刻蚀工艺是光刻(Photo)工艺的下一步，用于去除光刻胶(Photo Resist
2023-06-26 09:20
图形与硅片上已经存在的图形之间的对准。 六、曝光（Exposure） 在这一步中，将使用特定波长的光对覆盖衬底的光刻胶进行选择性地照射。光刻胶中的感光剂会发生光化学反应，从而使正光
2019-01-02 16:32
