最新的「倾斜离子注入」(TII)制程据称能够实现比当今最先进制程更小达9nm的特征尺寸... 最新的「倾斜离子注入」(TII)制程据称能够实现比当今最先进制程更小达9nm的特征尺寸... 美国柏克莱
2017-02-08 01:52
美国柏克莱实验室（Berkeley Lab）的研究人员日前发表最新的「倾斜离子注入」（tilted ion implantation，TII）制程，据称能够降低制造先进芯片的成本、缩短研发时间，同时实现比当今最先进制程更小达的9奈米（nm）特征尺寸。
2017-02-07 11:10
白俄罗斯LOTIS TII 公司Ls -2146- OPO集成式光学振荡器产品介绍：LS-2146-OPO 是一款调Q二极管泵浦固体(DPSS) Nd:YAG 激光器，其中内置中频光学参量振荡器
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