卷绕镀膜的介绍和应用 1、介绍卷绕镀膜是由于大面积柔性金属聚合物薄膜和纸张镀膜的需求而应运而生的。卷绕系统需要提供一个柔性基片，可以从一根轴上解开并缠绕到另外一根轴上，类似于磁带的工作。利用滑动密封
2016-06-17 14:42
摄像头模组（CCM）与镀膜手机镜头是有颜色的，而且不同的手机镜头颜色是不同的，有的是红色，有的是蓝色，有的还是金色。除了手机镜头外，平时用的数码相机镜头、望远镜、眼镜等的镜片都是有颜色的。这些颜色
2021-09-09 08:49
有时在一些应用中，我们需要检测系统是否掉电了，或者要在掉电的瞬间需要做一些处理。STM32就有这样的掉电检测机制——PVD(Programmable Voltage Detecter)，即可编程电压
2021-08-05 07:48
void PVD_Init(void){NVIC_InitTypeDef NVIC_InitStruct; EXTI_InitTypeDef EXTI_InitStructure
2021-08-13 09:15
的情况，即考虑基板后表面反射或者镀膜的情况。 为什么介质或基板不支持干涉？这是一个系统问题。基板的厚度通常以毫米而不是纳米来测量，因此路径差异非常长。入射角、波长和厚度的微小变化，虽然对路径差异的比例
2022-04-15 10:53
薄膜的纯度 薄膜的纯度与所蒸发纯度依赖于一下三个方面：一是源材料的纯度；二是加热装置、蒸发舟以及支撑材料的污染；三是真空系统中的残余气体。在沉淀过程中，蒸发物，包括原子和分子，连同残余气体同时的、独立的撞击到基片表面。表1-1给出了沉淀速率和残余气体压力在影响薄膜中含氧量上的相互作用。根据氧气的黏滞系数（大概在0.1量级或者更小）可以大概估计出含氧量密度，然而这些结果有重要意义。为了沉积出非常纯的薄膜，要求沉积速率高和低气体(H20、CO2、C0、O2、N2)残余压力。对于真空蒸发来说这些条件都不是很难的，比如在10-6 torr 的压力下蒸发速率可以达到1000 Å /s。表1-1 室温沉积Tim 薄膜的最大氧含量P02/torr沉淀率/（Å /s） 1101001000 10-910-310-410-510-6 10-710-110-210-310-4 10-510110-110-2 10-3103102101 另一方面，在溅射工艺中，沉积速率一般比蒸发低2个数量级，而压力比蒸发高4个数量级，因此所沉积的薄膜含有较高的氧。正是这个原因溅射不像蒸发那样被认为是一种清洁的薄膜制备方法。然而过去的20年中，随着高沉淀速率磁控溅射技术的商业发展，在清洁真空系统下低压强工作的溅射技术取得大量的进展。在制备AI薄膜时，两种方法得到的薄膜纯度大致相当。最后，表1-1表面在10-3torr残余气体压力下沉淀薄膜，薄膜中渗入了大量的氧。在反应沉淀金属氧化物的工艺中，可以利用这个引入氧，促进和金属反应。在制备纯的金属薄膜中，存在氧和氮杂质的明显影响是降低电导率、反射率以及其他的一些特性，如硬度等。
2016-06-17 14:40
PVD SERIES: PARTS VERIFICATION
2023-03-27 13:09
PVD SERIES: PARTS VERIFICATION
2023-03-27 13:08
BREAK输入： TIM1:COMP1、COMP2、硬故障、RAM奇偶校验、PVD、CSS、BKIN TIM15、TIM16、TIM17：硬故障、RAM奇偶校验、PVD、CSS、BKIN
2023-09-12 07:20
PWRHDRRA1P32S3PVD76AULF36CK
2023-04-05 02:14
