因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准磁控溅镀设备 FPD-PVD随着 LCD 面板和制造所需玻璃的尺寸的增加, 制造设备也随着
2022-11-04 13:17 伯东企业（上海）有限公司 企业号
400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和
2023-05-11 16:45 伯东企业（上海）有限公司 企业号
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准金属热蒸镀设备 Metal Thermal热蒸发是物理气相沉积 PVD 中最常用方法, 也是
2022-11-04 13:20 伯东企业（上海）有限公司 企业号
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 100上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 >400 mA 离子流. 考夫曼型离子源 RFICP 100 源直径19cm 安装在10”C
2023-05-11 14:28 伯东企业（上海）有限公司 企业号
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准KRI 射频离子源 RFICP 140上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元
2023-05-11 14:14 伯东企业（上海）有限公司 企业号
