中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。
2023-05-16 14:29
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition， PVD)工艺是指采用物理方法，如真空蒸发、溅射 （Sputtering）镀膜、离子体镀膜和分子束外延等，在圆片表面形成薄膜。
2022-11-03 15:32
。 PVD 沉积工艺在半导体制造中用于为各种逻辑器件和存储器件制作超薄、超纯金属和过渡金属氮化物薄膜。最常见的 PVD 应用是铝板和焊盘金属化、钛和氮化钛衬垫层、阻挡层沉积和用于互连金属化的铜阻挡层种子沉积。
2023-05-26 16:36
科裕酒店锁超强系统_专利离合装置 PVD工艺20年不脱色，电路抗干扰，稳定性高
2019-12-09 09:55
在半导体封装的bumping工艺中，PVD（Physical Vapor Deposition，物理气相沉积）溅射技术扮演了一个非常关键的角色。Bumping工艺，即凸块制造技术，是现代半导体封装
2024-11-14 11:32 北京中科同志科技股份有限公司 企业号
CVD与PVD的区别及比较 (一)选材： 化学蒸镀－装饰品、超硬合金、陶瓷 物理蒸镀－高温回火之工、模
2009-03-06 17:17
半导体知识：PVD金属沉积制程讲解
2019-07-24 11:47
磁控溅射（Magnetron Sputtering）是一种常见的物理气相沉积 (PVD) 工艺，具有速度快、温度低、损伤小等优点，其关键特点是使用一个磁场来控制并增强溅射过程。已发展成为工业镀膜中非
2023-12-04 11:17
首先在超薄玻璃上使用CVD或者PVD制作薄膜，其中金属层和ITO层由PVD制作, 绝缘层，半导体层等由CVD制作。然后通过黄光工艺(PHOTO)曝光设备制作我们需要的图形，最后通过蚀刻(Etching)
2019-05-08 17:46
用户可以利用PVD对VDD电压与电源控制寄存器(PWR_CR)中的PLS[2:0]位进行比较来监控电源，这几位选择监控电压的阀值。
2022-11-29 10:28
