中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。
2023-05-16 14:29
科裕酒店锁超强系统_专利离合装置 PVD工艺20年不脱色，电路抗干扰，稳定性高
2019-12-09 09:55
。 PVD 沉积工艺在半导体制造中用于为各种逻辑器件和存储器件制作超薄、超纯金属和过渡金属氮化物薄膜。最常见的 PVD 应用是铝板和焊盘金属化、钛和氮化钛衬垫层、阻挡层沉积和用于互连金属化的铜阻挡层种子沉积。
2023-05-26 16:36
半导体知识：PVD金属沉积制程讲解
2019-07-24 11:47
薄膜沉积技术主要分为CVD和PVD两个方向。 PVD主要用来沉积金属及金属化合物薄膜,分为蒸镀和溅射两大类，目前的主流工艺为溅射。CVD主要用于介质/半导体薄膜，广泛用于层间介质层、栅氧化层、钝化层等
2023-12-05 10:25
CKS32F4xx系列产品提供了可编程电压检测器PVD，用于对MCU供电电压VDD进行监控，当检测到电压低于或者高于PVD设置的阈值时，会向内核产生一个PVD中断（EXTI线中断）以使内核在复位前进
2023-02-13 15:12
蒸发镀膜，是将膜料加热蒸发为气相后沉积到衬底表面，此种成膜方式决定了蒸发出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev，原子动能太低，填充密度太低。
2017-12-05 08:59
STM32内部自带PVD功能，用于对MCU供电电压VDD进行监控。通过电源控制寄存器中的PLS［2:0］位可以用来设定监控电压的阀值，通过对外部电压进行比较来监控电源。当条件触发，需要系统进入特别保护状态，执行紧急关闭任务：对系统的一些数据保存起来，同时对外设进行相应的保护操作。
2018-12-26 15:41
集成电路前道工艺及对应设备主要分八大类，包括光刻（光刻机）、刻蚀（刻蚀机）、薄膜生长（PVD-物理气相沉积、CVD-化学气相沉积等薄膜设备）、扩散（扩散炉）、离子注入（离子注入机）、平坦化（CMP设备）、金属化（ECD设备）、湿法
2023-05-30 10:47
