电子发烧友

一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下

2021-01-12 10:17

　　关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。　　　　当然

2020-07-07 14:22

随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃

2012-01-12 10:51

本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 编辑 先分享光刻的参考资料。============================2014-10-17========光刻分类

2014-09-26 10:35

SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个

2018-07-12 11:57

有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢

2012-06-26 12:40

光刻图形转化软件可以将gds格式或者gerber格式等半导体通用格式的图纸转换成如bmp或者tiff格式进行掩模版加工制造，在掩膜加工领域或者无掩膜光刻领域不可或缺，在业内也被称为矢量图形光栅化软件

2025-05-02 12:42

三种常见的光刻技术方法根据暴光方法的不同,可以划分为接触式光刻,接近式光刻和投影式光刻三种光刻技术。　◆投影式暴光是利用

2012-01-12 10:56