半导体知识：PVD金属沉积制程讲解
2019-07-24 11:47
金属栅极的沉积方法主要由HKMG的整合工艺决定。为了获得稳定均匀的有效功函数，两种工艺都对薄膜厚度的均匀性要求较高。另外，先栅极的工艺对金属薄膜没有台阶覆盖性的要求，但是后栅极工艺因为需要重新填充原来多晶硅栅极的地方
2023-12-11 09:25
深入了解金属锂的电沉积行为对锂金属电池的实用化至关重要。长时间以来，学者们致力于探索抑制锂离子在锂金属负极表面的不均匀电沉积
2022-04-24 10:14
金属芯 PCB （也称为 MPCB ）非常受欢迎，由于它们提供的某些独特优势，它们被选择为常规 FR4 PCB 。在上一篇文章中，我们广泛地描述了这些 PCB ，它们的
2020-10-16 22:52
。 PVD 沉积工艺在半导体制造中用于为各种逻辑器件和存储器件制作超薄、超纯金属和过渡金属氮化物薄膜。最常见的 PVD 应用是铝板和焊盘金属化、钛和氮化钛衬垫层、阻挡层
2023-05-26 16:36
的 PCB 。什么是各种类型的 PCB ？继续阅读以了解。 有哪些不同类型的 PCB ？
2020-09-18 23:35
一站式PCBA智造厂家今天为大家讲讲PCB金属基板分类及其优点都有哪些?PCB金属基板分类及其优点。金属基板是一种特殊
2024-07-18 09:18
（1）锡膏印刷 对于THR工艺，网板印刷是将焊膏沉积于PCB的首选方法。网板厚度是关键的参数，因为PCB上的锡膏 层是网板开孔面积和厚度的函数。这将在本章的网板设计部分详细讨论。使用钢质刮刀以
2018-11-22 11:01
近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，股票代码：688012）推出自主研发的12英寸高深宽比金属钨沉积设备Preforma Uniflex® HW以及12英寸原子层金属钨
2024-05-29 11:12
`哪位了解LCVD激光气相沉积设备，想买一台用来做补线用。如图，沉积出宽10um左右的金属线。求大神指点！`
2014-01-17 10:36
