这两种蚀刻液被广为使用的原因之一是其再生能力很强。通过再生反应，可以提高蚀刻铜的能力，同时，还能保持恒定的蚀刻速度。在批量PCB
2022-08-17 15:11
引言 氢氧化钾(KOH)和添加剂2-丙醇(异丙醇，IPA)通常用于单晶硅片的碱性织构化，以减少其反射。氢氧化钾和异丙醇在水中的蚀刻混合物需要明确定义氢氧化钾和异丙醇的水平，以消除锯损伤，并获得完全
2022-01-04 17:13
蚀刻液的化学成分的组成：蚀刻液的化学组分不同，其蚀刻速率就不相同，蚀刻系
2023-10-16 15:04
PCB蚀刻技术通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在
2017-04-21 17:08
PCB印制电路中影响蚀刻液特性的因素 一、蚀刻液的选择 蚀刻
2009-11-18 08:56
按工艺要求排放出部分比重高的溶液经分析后补加氯化铵和氨的水溶液，使蚀刻液的比重调整到工艺充许的范围。
2023-12-06 15:01
按工艺要求排放出部分比重高的溶液经分析后补加氯化铵和氨的水溶液，使蚀刻液的比重调整到工艺充许的范围。
2019-06-10 16:31
碱性锌锰电池漏液的检测 碱性锌锰电池漏液的检测方法是在规定的贮存条件下检测电池漏
2009-11-06 10:53
KOH 溶液的碱浓度无关 ◦C。仅在碱性浓度越低，蚀刻速率越低。添加异丙醇会略微降低绝对蚀刻速率。在标准 KOH 溶液中蚀刻反应的活化能为 0.61 ± 0.03 e
2022-03-04 15:07
一、蚀刻的目的 蚀刻的目的即是将前工序所做出有图形的线路板上的未受保护的非导体部分铜蚀刻去，形成线路。 蚀刻有内层蚀刻和
2020-12-11 11:40
