KOH 溶液的碱浓度无关 ◦C。仅在碱性浓度越低，蚀刻速率越低。添加异丙醇会略微降低绝对蚀刻速率。在标准 KOH 溶液中蚀刻反
2022-03-04 15:07
。 二、蚀刻反应基本原理 1．酸性氯化铜蚀刻液 ①．特性 -蚀刻速度容易控制，蚀刻液在稳定状态下能达到高的
2020-12-11 11:40
PCB蚀刻技术通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在
2017-04-21 17:08
刻蚀电介质(二氧化硅、氮化硅)和晶体硅。论文的第二部分致力于蚀刻ⅲ-ⅴ族化合物半导体，其中基于氮化镓材料的反应离子刻蚀结果，揭示了一种简单实用的热力学方法，解释了选择蚀刻
2022-02-07 14:39
引言 氢氧化钾(KOH)和添加剂2-丙醇(异丙醇，IPA)通常用于单晶硅片的碱性织构化，以减少其反射。氢氧化钾和异丙醇在水中的蚀刻混合物需要明确定义氢
2022-01-04 17:13
1、 PCB蚀刻介绍 蚀刻是使用化学反应而移除多余材料的技术。PCB线路板生产加工对
2021-04-12 13:48
甲烷燃料电池是化学电池中的氧化还原电池。燃料电池是燃料和氧化剂（一般是氧气）在电极附近参与原电池反应的化学电源。甲烷（CH4）燃料电池就是用沼气（主要成分为CH4）作为
2018-02-04 13:04
这两种蚀刻液被广为使用的原因之一是其再生能力很强。通过再生反应，可以提高蚀刻铜的能力，同时，还能保持恒定的蚀刻速度。在批量PCB
2022-08-17 15:11
土壤氧化还原电位仪【恒美HM-QX6530】在土壤中的应用是什么呢？土壤氧化还原电位仪由山东恒美电子科技测土仪器厂家专业生产提供土壤
2021-09-08 10:21
氢氧化钾(KOH)是一种用于各向异性湿法蚀刻技术的碱金属氢氧化物，是用于硅晶片微加工最常用的硅蚀刻化学物质之一。各向异性蚀刻
2022-05-09 15:09
