湿法蚀刻工艺的原理是使用化学溶液将固体材料转化为液体化合物。选择性非常高,因为所用化学药品可以非常精确地适应各个薄膜。对于大多数解决方案,选择性大于100:1。
2021-01-08 10:12
PCB碱性蚀刻常见问题原因及解决方法
2012-08-03 10:14
PCB制作工艺中的碱性氯化铜蚀刻液1.特性1)适用于图形电镀金属抗蚀层,如镀覆金、镍、锡铅合金,锡镍合金及锡的印制板的蚀刻
2018-02-09 09:26
kJ/摩尔)。这是一个相对较高的值,这是蚀刻工艺的典型值,其速率受化学反应本身的限制,而不是受反应产物的溶解或反应物质向蚀刻表面扩散的限制。类似地,使用光学显微镜观察到的蚀刻表面的光滑度表明
2021-07-09 10:23
PCB印制电路中影响蚀刻液特性的因素一、蚀刻液的选择 蚀刻液的选择是非常重要的,它所以重要是因为它在印制电路板制造工艺
2013-10-31 10:52
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻,区别如下
2021-01-12 10:17
晶片全面曝光的方法,使单一晶片上可以获得更多的芯片(chip)。如此一来,虽然产率得以提高,但同时也制造一些工艺处理问题。特别在对硅晶片蚀刻深凹槽(deeptrench)工艺方面。 由于采用全面曝光
2018-03-16 11:53
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2016-01-27 17:32
书籍:《炬丰科技-半导体工艺》文章:微镜角度依赖性与蚀刻剂选择编号:JFKJ-21-047作者:炬丰科技网址:http://www.wetsemi.com/index.html抽象的:在为微光学创建
2021-07-19 11:03
氨类蚀刻剂的抗蚀镀层,而不需热压焊又要求镀层光亮的PCB,通常采用光镍/金镀层。镍镀层厚度一般不低于2.5微米,通常采用4-5微米。PCB低应力镍的淀积层,通常是用改性型的瓦特镍镀液和具有降低应力
2011-12-22 08:43