我们华林科纳研究了基于柠檬酸(CA)的清洗液来去除金属污染物硅片表面。 采用旋涂法对硅片进行Fe、Ca、Zn、Na、Al、Cu等标准污染,并在各种添加Ca的清洗液中进行清洗。 金属的浓度采用气相分
2022-03-07 13:58
使用,为了提高表面的清洁度,进行了清洗法的改良,降低使用的超纯水、药品中的污染等方面的努力。今后为了进一步提高表面清洁度,有必要比以前更多地减少工艺中的污染,但这并不是把污染金属集中起来处理,而是考虑到每个元素在液体中的行为不同,在本文中,介绍了关于Si晶圆表面金属在清洗
2022-03-21 13:40
使用,为了提高表面的清洁度,进行了清洗法的改良,降低使用的超纯水、药品中的污染等方面的努力。今后为了进一步提高表面清洁度,有必要比以前更多地减少工艺中的污染,但这并不是把污染金属集中起来处理,而是考虑到每个元素在液体中的行为不同,在本文中,介绍了关于Si晶圆表面金属在清洗
2022-03-28 15:08
超声波清洗机通过使用高频声波(通常在20-400kHz)在清洗液中产生微小的气泡,这种过程被称为空化。这些气泡在声压波的影响下迅速扩大和破裂,产生强烈的冲击力,将附着在物体表面的污垢剥离。以下
2025-05-21 17:01 科伟达超声波清洗设备 企业号
在半导体制造工序的硅晶圆的清洗中,RCA清洗法被很多企业使用。RCA清洗方法是清洗硅片的行业标准方法,其中清洗溶液的温度
2022-04-15 14:55
利用硅藻土和稀硫酸溶液对电路板组装件的废清洗液进行处理,并对处理前后的废清洗液进行 FTIR、UV以及水质分析等测试。由类似的FTIR、UV光谱分析可知处理前后的废清洗液中均含部分
2023-04-12 11:14
超声清洗机可用于溶剂清洗,也可用于水清洗工艺。它是利用超声波的作用使清洗液体产生孔穴作用、扩散作用及振动作用,对工件进行清洗
2020-03-24 11:29
超声波清洗机能够在较短的时间内完成更多的清洗任务,提高生产效率。清洗液的循环使用和低用量使用也减少了对水资源和化学清洗剂的浪费,具有环保和节能的特点。
2024-08-17 10:36
随着半导体工业的发展,多层处理变得越来越复杂,清洗溶液和蚀刻化学物质在提高收率和减少缺陷方面的作用变得越来越重要。本文证明了具有铜和钨相容性的成功配方,并具有层间介电(ILD)清洗和选择性钛刻蚀的性能。
2022-04-06 16:33
超声波清洗机利用超声波在清洗液中产生的空化作用、加速度作用来清洗物品。在40KHZ的频率下,超声波能够在清洗液中产生大量的微小气泡。这些气泡在
2024-04-27 13:44