光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正
2019-11-07 09:00
光刻胶的光敏材料； 2、光电绘图仪使用光源有选择性地对部分光刻胶进行曝光； 3、曝光后光刻胶的化学特性发生变化，光刻胶是正片的经过曝光后将软化，如果
2024-06-16 11:17
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
PCB上这种指纹的图案露铜是怎么实现的？
2025-02-10 17:52
到目前为止，有没有变化和发展？ 有无淘汰的概念？
2024-03-30 11:40
XX nm制造工艺是什么概念？为什么说7nm是物理极限？
2021-10-20 07:15
请问什么是EDA？那么FPGA是EDA的一种，为什么要有EDA这么一个总的概念？
2014-07-09 18:13
本文简单梳理一下ARM有关的概念，包括ARM architecture、ARM core、ARM CPU（或MCU）以及ARM Soc。我们这些以ARM平台为主的嵌入式工程师，几乎每天都会和这些概念
2021-03-03 06:36
单片机的8个常用概念
2021-03-29 06:25
串口中的帧是什么概念
2023-10-20 07:27
