翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
请问下：ARM SOC中的ROM（TEE信任根）是在生产芯片阶段烧录的吗？还是在手机产品生产阶段与FLASH一起烧录的？谢谢。
2022-09-20 14:45
也就是恒压阶段的时候是1/10*100mA=10mA，这个电流其实是不要做精准判断的。毕竟电池后面是挂了LDO、MCU、外围等负载的。而且这些负载在电池不同的电压阶段耗电流也是不一样的，这个时候充电
2023-04-08 13:17
光刻法制作叉指电极，叉指电极的图案用什么软件绘制，以及是否有绘制教程，刚接触这个，也没有师兄，希望大佬来指导一下
2022-05-04 19:56
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
在ARM主机上编译SDK/examples/SSD_object中的示例，程序编译最后阶段输出local symbol的信息，是否是编译成功?
2023-09-19 06:37
单面板的设计制造，单面板的主体是坚硬的绝缘材料，是环氧树脂玻璃纤维或者FR4，称之为基板，铜材料通过胶粘或者电沉积的方式贴在电路板的一面称为顶面。 光刻技术原理过程： 1、铜金属层包覆上一种叫做
2024-06-16 11:17
使用的MCU主频也就是4MHz，无法给ADC芯片提供高速时钟；第二是单次采样完成之后需要与MCU进行即时数据传输，而我4MHz的MCU根本不能与之通讯。简而言之就是目前
2018-09-27 11:45
