PECVD原理 PECVD作用：在硅片表面镀上一层深蓝色的氮化硅膜，可以充分吸收太阳光，降低反射，并且氮化硅膜有钝化的作用，保护电池
2010-07-18 11:29
本文介绍了ControlNet 总线技术特点，并将其应用到PECVD 设备的控制系统中。试验结果表明，采用ControlNet 总线控制技术，PECVD 设备淀积薄膜的
2009-08-18 11:50
卧式热壁型PECVD 设备北京七星华创电子股份有限公司微电子设备分公司1、简介我公司研制的卧式PECVD 设备专门应用于太阳能电池制造领域中氮化硅薄膜的淀积工艺。由于
2009-12-18 16:27
本文介绍了PECVD中影响薄膜应力的因素。 影响PECVD 薄膜应力的因素有哪些？各有什么优缺点？ 以SiH4+NH3/N2生成SiNx薄膜，SiH4+NH3+NO2生成SiON薄膜为例，我这边归纳
2025-02-10 10:27
PmaxTM等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，拓展了一个重要的全新产品分类。盛美上海预计将在几周内向中国的一家集成电路客户交付其首台PECVD设备。 盛美上海首席执行官王坚表示： “Ultra PmaxTM PE
2022-12-13 18:07
目前，LED芯片技术的发展关键在于基底材料和晶圆生长技术。基底材料除了传统的蓝宝石材料、硅(Si)、碳化硅(SiC)以外，氧化锌(ZnO)和氮化镓(GaN)等也是当前研
2012-10-16 17:20
是PECVD和物理气相沉积（PVD）设备的设计和制造；高端PECVD/PVD设备也是半导体芯片制造行业的“核芯”设备之一，是最先进半导体设备技术水平的体现。迅立光电及其
2018-05-29 18:26
沈阳拓荆科技有限公司承担的国家重大科技专项项目——90～65纳米等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备的研发与产业化研制日前获得成功
2011-11-08 09:15
摘要:采用VHF-PECVD技术制备了不同功率系列的微晶硅薄膜和电池,测试结果表明:制备的适用于微晶硅电池的有源层材料的暗电导和光敏性都在电池要求的参数范围内.低功率或高功率条
2010-11-23 21:36
本文提出了一种基于MEMS工艺的LED芯片封装技术，利用Tracepro软件仿真分析了反射腔的结构参数对LED光强的影响，通过分析指出。利用各向异性腐蚀硅形成的角度作为
2018-06-15 14:28
