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  • 详细解读LED芯片的制造工艺流程

    LED 芯片的制造工艺流程:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2 腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P

    2016-08-05 17:45

  • 外延沉积原位工艺清洗的效果

    本文研究了外延沉积原位工艺清洗的效果,该过程包括使用溶解的臭氧来去除晶片表面的有机物,此外,该过程是在原位进行的,没有像传统上那样将晶圆从工艺转移到冲洗罐。结果表明,与不使用溶解臭氧作为表面处理

    2022-04-12 13:25

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    本文提出了一种基于MEMS工艺LED芯片封装技术,利用Tracepro软件仿真分析了反射腔的结构参数对LED光强的影响,通过分析指出。利用各向异性腐蚀硅形成的角度作为

    2018-06-15 14:28

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    2019-07-18 08:35

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    2020-01-23 17:33

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    2013-01-24 10:59

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    2025-04-28 20:18 金鉴实验室 企业号