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  • 芯片制造过程中的两种刻蚀方法

    本文简单介绍了芯片制造过程中的两种刻蚀方法   刻蚀(Etch)是芯片制造

    2024-12-06 11:13

  • 芯片制造中的湿法刻蚀和干法刻蚀

    芯片制造过程中的各工艺站点,有很多不同的工艺名称用于除去晶圆上多余材料,如“清洗”、“刻蚀”、“研磨”等。如果说“清洗”工艺是把晶圆上多余的脏污、particle、上一站点残留物去除掉,“

    2024-12-16 15:03 Piezoman压电侠 企业号

  • 芯片制造刻蚀工艺科普

    在半导体制程工艺中,有很多不同名称的用于移除多余材料的工艺,如“清洗”、“刻蚀”等。如果说“清洗”工艺是把整张晶圆上多余的不纯物去除掉,“刻蚀”工艺则是在光刻胶的帮助下有选择性地移除不需要的材料,从而创建所需的微细图案。半导体“

    2023-09-24 17:42

  • 芯片刻蚀原理是什么

    芯片刻蚀是半导体制造中的关键步骤,用于将设计图案从掩膜转移到硅片或其他材料上,形成电路结构。其原理是通过化学或物理方法去除特定材料(如硅、金属或介质层),以下是芯片刻蚀的基本原理和分类: 1.

    2025-05-06 10:35

  • Bosch刻蚀工艺的制造过程

    Bosch刻蚀工艺作为微纳加工领域的关键技术,对于HBM和TSV的制造起到了至关重要的作用。

    2024-10-31 09:43

  • LED芯片制造流程

    LED芯片制造流程 随着技术的发展,LED的效率有了非常大的进步。在不久的未来LED会代替现有的照明灯泡。近几年人们

    2009-11-13 09:33

  • 一种无刻蚀损伤的新型Micro-LED像素制造技术

    Micro-LED的高对比度,强亮度,优能效和长寿命使其成为最具潜力的下一代显示技术。然而,传统的micro-LED制造过程中使用的等离子体刻蚀工艺会导致器件台面侧壁严

    2024-05-29 11:14

  • 芯片湿法刻蚀方法有哪些

    芯片湿法刻蚀方法主要包括各向同性刻蚀和各向异性刻蚀。为了让大家更好了解这两种方法,我们下面准备了详细的介绍,大家可以一起来看看。 各向同性

    2024-12-26 13:09

  • 详细解读LED芯片制造工艺流程

    LED 芯片制造工艺流程:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2 沉积→窗口图形光刻→SiO2 腐蚀→

    2016-08-05 17:45

  • 大功率LED芯片制造方法

    我们知道,大功率LED灯珠主要构成器件为大功率LED芯片,如何制造高品质LED高功率晶片至关重要。今天带大家一起来了解常

    2012-05-21 11:46