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能量在KeV级。电镜能谱元素分析与XRF能谱元素分析时与原子价态无关,比例单质铁与氧化铁的中的铁特征峰相同。
2025-01-21 10:09
的相互作用,具体过程如下:1.电子束生成电子枪(常见类型有钨丝、六硼化镧或场发射)发射高能电子,能量通常在60-300keV之间。这些电子经过聚光镜聚焦,形成平行的电子
2025-06-06 15:33 金鉴实验室 企业号
离子束蚀刻 (Ion beam etch) 是一种物理干法蚀刻工艺。由此,氩离子以约1至3keV的离子束辐射到表面上。由于离子的能量,它们会撞击表面的材料。晶圆垂直或倾斜入离子束,蚀刻过程是绝对
2023-06-20 09:48