今年苹果还是继续会推出三款新iPhone手机，根据外媒报道可能都会基于iPhone X的设计，采用刘海屏。三款手机的屏幕分别为5.8寸、6.1寸、6.5寸。
2018-07-23 14:49
本发明涉及一种感光膜去除方法，通过使半导体制造工艺中浇口蚀刻后生成的聚合物去除顺畅，可以简化后处理序列，从而缩短前工艺处理时间，上述感光膜去除方法是:在工艺室内晶片被抬起的情况下，用CF4+O2等离子体
2022-04-12 16:30
有几个因素对于决定采用何种方式来去除涂层是很有帮助的。是什么类型的阻焊膜？阻焊膜在电路板表面的什么位置？需去除的阻焊膜面积有多大？电路板是组装好的还是裸板？在确定最适合的去除方法之前，必须对这些因素和其它一些因素进行
2019-06-05 11:12
PCB上那些米色标记/图标/符号是什么？如何将其去除？
2023-10-16 15:21
以苹果为代表的部分厂商选择了3D识别技术，通过结构光构建人脸模型进行识别。但此类技术不可避免涉及到刘海屏问题。以vivo等为代表的厂商选择了另一条路线，即屏下指纹解决方案。其优点在于能够“隐藏”，避免
2019-08-06 16:16
去除三防漆的方法有很多种，可以使用甲醇与碱性活化剂溶液或乙二醇醚与碱性活化剂溶液，也可以用甲苯二甲苯；但是有效的方法是要针对不同的三防漆而采用专用的溶剂来清除，现在很多既环保，清洁力又强的清洗剂，完全可以替代之前那些传统清洗剂。
2019-05-14 16:13
本文的目标是讨论一种新技术，它可以在保持竞争力的首席运营官的同时改善权衡。 将开发湿化学抗蚀剂去除溶液的能力与对工艺和工具要求的理解相结合，导致了用于光刻胶去除的单晶片清洗技术的发展。 该技术针对晶
2022-05-07 15:11
在PCB设计中，框选加铜，会在线与线之间出现死铜(孤岛)?是否应该去除死铜(孤岛)呢?
2023-06-20 15:37
本发明涉及一种去除光刻胶的方法，更详细地说，是一种半导体制造用光刻胶去除方法，该方法适合于在半导体装置的制造过程中进行吹扫以去除光刻胶。在半导体装置的制造工艺中，将残留在晶片上的光刻胶，在H2O
2022-04-13 13:56
