光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正
2019-11-07 09:00
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
光刻胶的光敏材料； 2、光电绘图仪使用光源有选择性地对部分光刻胶进行曝光； 3、曝光后光刻胶的化学特性发生变化，光刻胶是正片的经过曝光后将软化，如果
2024-06-16 11:17
PCB上这种指纹的图案露铜是怎么实现的？
2025-02-10 17:52
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
导电银胶按导电方向分为各向同性导电银胶和各向异性导电银胶。
2019-11-06 09:01
这种胶能在加了三防胶的电路板上使用吗？如果方便的话，能发几个这种胶比较好的品牌或者常用的淘宝链接吗?谢谢
2019-10-29 09:01
求NI vison检测方法 。点胶机对手机指纹模块位置的胶量，断胶，偏移检测方法求点胶机对手机指纹模块位置的胶量，断胶，偏移检测方法.如图
2017-05-03 22:58
各位大神，这传感器如何剥离封装胶？
2017-07-03 09:22
我自己修电视的时候，上面不小心粘了一团环氧树脂的B胶，焊点位置我直接加热就去除了，但是器件上脚的胶怎么办呢，我试过用酒精擦洗，没用，不知道这玩意会不会漏电什么的，现在也不敢直接把板子往插座上接，怕短路了。大家有什么好建议吗？
2019-04-29 07:55
