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    2018-01-23 14:51

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    2017-12-19 13:33

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    2018-04-10 10:19

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    2018-12-01 09:29

  • 提高光刻机性能的关键技术及光刻机的发展情况

    作为光刻工艺中最重要设备之一,光刻机一次次革命性的突破,使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。

    2020-08-28 14:39

  • 助力高级光刻技术:存储和运输EUV掩模面临的挑战

    随着半导体行业持续突破设计尺寸不断缩小的极限,极紫外 (EUV光刻技术的运用逐渐扩展到大规模生产环境中。对于 7 纳米及更小的高级节点,EUV

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  • 光刻技术的原理和EUV光刻技术前景

    微电子技术的发展历程中,人们一直在研究开发新的IC制造技术来缩小线宽和增大芯片的容量。我们也普遍的把软X射线投影光刻称作极紫外投影光刻。在光刻技术领域我们的科学家们对极

    2018-06-27 15:43

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    2018-11-22 15:32