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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

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    2019-11-07 09:00

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    2019-09-30 07:30

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  • 太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

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    突破瓶颈。尤其是中国语言的博大精深,尽管现如今的智能音箱可以接受到普通指令,但在很多方面来说智能音箱还有待进步。`

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    2017-11-13 11:12

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    物联网产业链宏大,涵盖了当代信息技术的所有方面,并随着行业应用的发展还会创造出更多的技术和产品。我国物联网发展正处于初级阶段,加快发展仍需突破几个瓶颈

    2019-07-31 06:00

  • 求助论坛的半导体工艺大神们,一个电子系研究生求助

    本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应了

    2018-02-27 15:47