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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

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    2019-07-01 07:22

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    2018-06-13 14:40

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    LTE-Advanced(简称LTE-A)是LTE技术的进一步演进版本,可以实现更高的峰值速率和系统容量。需要说明的,LTE-A不是一项独立的技术,而是由3GPP R10-R12版本标准中定义的载波聚合(Carrier Aggregation,CA)、高阶MIMO(下行TM9、上行TM2)、增强小区间干扰协调(eICIC)、协同多点(CoMP)、中继(Relay)、小小区增强(Small Cell)等一系列增强特性构成的技术集。因此,产业界可以选择性的逐步实现各个LTE-A技术选项,而不需要一步到位的实现全部。

    2019-08-15 06:56

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    2018-02-27 15:47

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    单片自检技术的研究现状及进展情况??要弄开题报告,求大神帮助!!

    2015-03-25 11:37

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    喷胶是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。

    2020-03-23 09:00

  • 5G技术研发试验进展介绍

    第四代移动通信(4G)技术在全球范围的规模商用,面向2020年及未来商用的第五代移动通信(5G)技术研发与标准化已全面启动。在全球业界的大力推动下,5G技术研究快速发展,当前已经进入技术标准研制的关键阶段,各国也纷纷发布5G试验计划来推动5G技术与标准的发展。

    2019-07-11 06:26

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    光刻掩膜设计与加工制造服务,请问可以加工二元光学器件吗?相位型光栅那种.

    2024-04-22 06:24