是0.33，大家可能还记得之前有过一个新闻，就是ASML投入20亿美元入股卡尔·蔡司公司，双方将合作研发新的EUV光刻机，许多人不知道EUV
2020-07-07 14:22
据羊城晚报报道，近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机，顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区，中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机，主要用于企业复
2021-07-29 09:36
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38
ofweek电子工程网讯 国际半导体制造龙头三星、台积电先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这一消息使得业界对半导体制造的关键设备之一极紫外光刻机（EUV）的关注度大幅提升。此后又有媒体
2017-11-14 16:24
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
，ASML还预计2020年，公司将交付35台EUV光刻机，2021年则会达到45台到50台的交付量，是2019年的两倍左右。 除了光刻机外，其他如刻蚀机等设备购买、工艺
2020-02-27 10:42
的商机。另外，这种设计过程缺少预算和成本管理以及时间进度的控制，从而影响到企业的工作效率和市场竞争力。 (二)产品研发的项目化管理 对产品的研发进行项目化管理，可以有效地解决上述问题。但对产品
2013-05-17 17:01
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56
及技术砷化镓锗蓝宝石单晶合成设备及技术微控高位扩散/退火/氧化系统设备。进口全新 翻新设备光刻机AP/PECVD扩散炉溅射台蒸发机注入机刻蚀机 ICP深槽刻蚀
2016-05-05 09:51
