• 发文章

  • 发资料

  • 发帖

  • 提问

  • 发视频

创作活动
0
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
返回

电子发烧友 电子发烧友

  • 全文搜索
    • 全文搜索
    • 标题搜索
  • 全部时间
    • 全部时间
    • 1小时内
    • 1天内
    • 1周内
    • 1个月内
  • 默认排序
    • 默认排序
    • 按时间排序
  • 全部板块
    • 全部板块
大家还在搜
  • 光刻机工艺的原理及设备

    是0.33,大家可能还记得之前有过个新闻,就是ASML投入20亿美元入股卡尔·蔡司公司,双方将合作研发新的EUV光刻机,许多人不知道EUV

    2020-07-07 14:22

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进口的台大型光刻机,顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区,中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV

    2021-07-29 09:36

  • 光刻机是干什么用的

    光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以把光刻机就想成是台巨大的单反相机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相机的底片(感光元件)上,如此便可

    2020-09-02 17:38

  • 如果国家以两弹星的精神投入光刻机

    如果国家以两弹星的精神投入光刻机的研发制造,结果会怎样?

    2020-06-10 19:23

  • 电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    出现误差。传统聚焦手段已不能满足电子直写光刻机对电子束质量的要求。 只有对聚焦电极改进才是最佳选择,以下介绍该进后的电极工作原理。通过把电子束压缩到中心线达到缩束的目的,使电子束分布在条直线

    2025-05-07 06:03

  • 三种常见的光刻技术方法

    是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙般在10~25

    2012-01-12 10:56

  • EUV热潮不断 中国如何推进半导体设备产业发展?

    ofweek电子工程网讯 国际半导体制造龙头三星、台积电先后宣布将于2018年量产7纳米晶圆制造工艺。这消息使得业界对半导体制造的关键设备之极紫外光刻机EUV)的

    2017-11-14 16:24

  • 半导体制造企业未来分析

    哪些市场信息? 晶圆代工厂不惜重金 在制造工艺演进到10nm之后,晶圆厂都在为摩尔定律的继续前进而做各种各样的努力,EUV则是被看作的第个倚仗。而从EUV光刻机AS

    2020-02-27 10:42

  • 单片晶圆制造工艺及设备详解

    的有氧化炉、沉积设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入、清洗、化学研磨设备等。以上是今日Enroo关于晶圆制造工艺及半导体设备的相关分享。

    2018-10-15 15:11

  • 光刻机

    和荷兰学习交流,学他的技术,当然要付出代价,比如财富和他想要的东西,真诚相待,会成功的,还可以引进的的人才和技术,在和他学艺,联姻,总之就是把技术学到手。

    2022-11-20 08:48