日前，ASML产品营销总监Mike Lercel向媒体分享了EUV（极紫外）光刻机的最新进展。
2021-03-19 09:39
、与 Mike在SEMICON 上的一些讨论以及 ASML 最近的财报电话会议中的一些内容。以分享了ASML光刻机的最新进展。
2023-07-30 10:39
风光互补技术原理及最新进展摘要： 简要回顾国内外风电、光伏技术与应用发展态势，结合风光互补系统应用， 分析、介绍了风光互补LED路灯照明系统、智能控制器设计、分布式供电电源、风光互补水泵系统，并着重
2009-10-26 13:45
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外
2022-07-10 14:53
介绍IXIAIP测试平台和所提供测试方案的最新进展
2021-05-26 06:46
，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限，所以Intel、三星和台积电都会在7nm这个节点引入极紫外光（EUV
2020-07-07 14:22
euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV
2022-07-10 15:28
CMOS图像传感器最新进展及发展趋势是什么？
2021-06-08 06:20
ITU-T FG IPTV标准化最新进展如何？
2021-05-27 06:06
10月14日，荷兰ASML（阿斯麦）公布了光刻机产品的最新进展。其中TWINSCAN NXE:3600D作为其目前研发中的最先进光刻机系统，终于敲定最终规格。
2020-10-15 09:47
