将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
有没有大神了解，国产77G雷达的情况，有媒体披露有几家研发出来的，不知道是样机阶段还是能量产？目前难点是在工艺吗？国产进度最领先是哪家呀？国产替代的逻辑是什么？便宜还是
2019-02-14 11:50
有国产单片机吗？
2015-07-13 17:11
`本文转自公众号： microscapes8 ,该公众号有系列文章探讨如何发展国产EDA。 集成电路设计和制造产业，都离不开EDA软件的使用。目前，国内集成电路领域还比较依赖国际3大EDA巨头的软件
2018-09-09 09:51
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更
2018-06-13 14:40
芯片是怎么产生技术
2019-05-09 02:46
国产单片机有兼容AT89S52的吗？
2022-02-25 10:24
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
