EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“
2021-07-29 09:36
,购买或者开发EUV光刻机是否必要?中国应如何切实推进半导体设备产业的发展?EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外
2017-11-14 16:24
%,Lam Research为10亿美元,占台积电采购额的9%,迪恩士占5%,KLA占4%。ASML目前,全球仅有ASML一家公司掌握着EUV光刻机的核心技术,这也是5nm制程必需的设备,但
2020-03-09 10:13
和荷兰学习交流,学他的技术,当然要付出代价,比如财富和他想要的东西,真诚相待,会成功的,还可以引进的的人才和技术,在和他学艺,联姻,总之就是把技术学到手。
2022-11-20 08:48
哪些市场信息? 晶圆代工厂不惜重金 在制造工艺演进到10nm之后,晶圆厂都在为摩尔定律的继续前进而做各种各样的努力,EUV则是被看作的第一个倚仗。而从EUV
2020-02-27 10:42
今日(5月6日)消息,IBM宣布造出了全球第一颗2nm工艺的半导体芯片。核心指标方面,IBM称该2nm芯片的晶体管密度(MTr/mm2,每平方...
2021-07-20 06:51
的晶体管制程从14nm缩减到了1nm。那么,为何说7nm就是硅材料芯片的物理极限,碳纳米管复合材料又是怎么一回事呢?面对美国的技术突破,中国应该怎么
2021-07-28 07:55
2019-04-04 13:30
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻,区别如下
2021-01-12 10:17
从7nm到5nm,半导体制程芯片的制造工艺常常用XXnm来表示,比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工艺。所谓的XXnm指的是集
2021-07-29 07:19