翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
小弟刚刚开始接触EDA。要做一个关于EDA常用仿真软件的project，但是我看EDA仿真软件不要太多啊，还分什么“电路
2014-05-15 20:57
EDA技术是什么？EDA常用软件有哪些？电子电路设计与仿真工具包括哪些呢？
2022-01-24 06:34
业内现有多少种EDA设计软件？具体是哪些？其每一种EDA软件分别导出的文件格式是什么类型？
2013-08-15 20:43
求eda软件，哪位大侠发下呢{:1:}
2014-04-17 23:18
# 哪位能推荐一个EDA软件使用？~~~~
2022-09-07 14:41
学习EDA多哦那个什么软件啊，现在。
2011-10-11 19:12
基于矩量法仿真的微波EDA仿真软件基于时域有限差分的微波仿真软件基于有限元的微波EDA仿真软件
2021-05-25 06:19
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
eda常用软件那些
2014-09-14 12:02
