光刻机原型 接下来ASML在2006年推出了EUV光刻机的原型，2007年建造了10000平方米的无尘工作室，在2010年造出了第一台研发
2020-07-07 14:22
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外
2022-07-10 14:53
光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影
2022-07-10 15:28
。媒体称，台积电采购的EUV光刻机已经超过30台，三星累计采购的EUV光刻机不到20台。 围绕芯片制造要用到的关键设备
2020-10-19 12:02
一台EUV光刻机工作一天大概需要耗电3万度。如果关闭1台EUV光刻机，
2022-09-08 10:54
EUV光刻机是在2018年开始出现，并在2019年开始大量交付，而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48
按照光刻机的理想工作状态，一台光刻机一天能生产800×600颗芯片，也就是48万颗芯片，除去产品中的一部分次品，
2022-02-05 16:15
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03
台积电前不久试产了7nm EUV工艺，预计明年大规模量产，三星今天宣布量产7nm EUV工艺，这意味着EUV工艺就要正式商业化了，而全球最大的
2018-10-19 10:49
ASML的极紫外光刻机（EUV），这个是当前世界顶级的光刻机设备。 在芯片加工的时候，光刻机是用
2022-07-10 11:17
